利用等离子体聚合、光刻蚀和化学溶剂刻蚀等方法，在基材表面制得微细结构，再通过表面化学修饰获得超疏水表面。oner等在烃、硅氧烷和碳表面，用照相平板印刷及光刻蚀的方法制备出具有微米级柱状阵列结构的硅表面，然后用偶联剂进行疏水处理得到超疏水性表面；对表面粗糙立柱的大小、形状和间隔进行研究，结果表明：二维立柱大长度是32 μm，在20~140 μm时，接触角不随柱高而改变。bico等利用模板刻蚀法，在硅表面制备出具有微米级针状、孔状及条状结构的粗糙表面， 经化处理后表面wca分别达到167°、131°及151°。

    除了上述低表面能硅表面，还可在亲水性金属表面刻蚀粗糙的微细形貌。周峰等对铝片进行阳极氧化刻蚀处理，生成纳米针状al2o3平行纳米森林结构，再用0.5%1h, 1h, 2h, 2h-perfluoro-octadecyltrichlorosilan含接枝改性的聚酰亚胺树脂对其表面进行修饰，可获得兼具超双疏（疏油/水）性能的自清洁表面（见图2 ），其油/水双疏性较好，接触角c a（contact angle）>150°，具有良好的工程应用潜力。

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